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产品展示

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超声波设备

KQ-500MSE兆声波清洗机产品介绍


产品名称:KQ-500MSE兆声波清洗机产品介绍

简介:KQ-500MSE是兆声波清洗机系列中容量规格最大的方形槽产品,以400×400×150mm的大方形内槽和24L容量,将兆声波精密清洗技术带入产业级批量应用场景。设备配备0.5/1.0/1.7MHz可选单频兆声频率、500W超声功率、1000W大功率加热系统、7寸TFT全彩触控操作界面、间歇脱气功能和9组程序存储,不锈钢烤漆外壳,整机外形500×500×325mm。KQ-500MSE突破了兆声波清洗设备容量偏小、仅适用于实验室或小批量的传统局限,以产业规模的处理能力实现纳米级精密清洗效果,是对洁净度要求极高的产业级精密制造场景的专业选配。


产品详情

KQ-500MSE兆声波清洗机产品介绍

KQ-500MSE是兆声波清洗机系列中容量规格最大的方形槽产品,以400×400×150mm的大方形内槽和24L容量,将兆声波精密清洗技术带入产业级批量应用场景。设备配备0.5/1.0/1.7MHz可选单频兆声频率、500W超声功率、1000W大功率加热系统、7寸TFT全彩触控操作界面、间歇脱气功能和9组程序存储,不锈钢烤漆外壳,整机外形500×500×325mm。KQ-500MSE突破了兆声波清洗设备容量偏小、仅适用于实验室或小批量的传统局限,以产业规模的处理能力实现纳米级精密清洗效果,是对洁净度要求极高的产业级精密制造场景的专业选配。

400×400mm大方槽的产业级价值

KQ-500MSE的内槽尺寸达到400×400mm,是本系列最大的方形槽规格,24L容量为CE/MSE兆声系列中的最大容量。这一尺寸能够容纳更大规格的方形工件,或在单次清洗中处理更多数量的小型工件,真正具备了产业级批量清洗的处理能力。对于精密显示面板基板、大尺寸光学基板、规格较大的晶圆承载盘(晶舟)、整批标准装载盒装载的晶圆等工件,KQ-500MSE的大方槽提供了足够的容纳空间,避免了小槽设备需要多批次清洗导致的时间延误和批次间一致性问题。

KQ-500MSE 槽体规格

内槽长 400mm

内槽宽 400mm

内槽深 150mm

容量 24L

400×400mm 大方形对称槽体 · 24L大容量 · 整机500×500mm

400×400mm的方形槽底面积达到0.16m²,约为同系列KQ-400CE(320×320mm,0.1024m²)的1.56倍,约为KQ-300CE(250×250mm,0.0625m²)的2.56倍,是系列中换能器阵列规模最大、声场覆盖面积最广的方槽型号。对于在方形槽内进行工艺清洗的生产线,KQ-500MSE的大槽体意味着每批次可以清洗的工件数量显著增加,直接提升生产线的清洗产出效率,降低每件产品的清洗工序时间成本,对提高工厂整体产能具有实际意义。

产品技术规格

技术参数详细说明
产品型号KQ-500MSE
外形尺寸500×500×325mm(大方形台式)
内槽尺寸400×400×150mm(大正方形槽体)
有效容量24L(系列最大容量方槽)
超声功率500W
加热功率1000W(大功率快速加热)
温度范围室温-80℃
工作时间1min-99h59min
间歇/脱气时间1s-59min59s可调
控制方式7寸TFT全彩触控屏
程序存储9组用户自定义设定
外壳材质不锈钢烤漆,耐腐蚀抗氧化
标准配置不锈钢托架、手控进排水
工作电源AC220V/50Hz
兆声频率可选0.5MHz / 1.0MHz / 1.7MHz(单频)

兆声波精密清洗系列完整产品对比

兆声波清洗机完整系列产品线对比:

型号槽体形状内槽尺寸容量超声功率加热功率定位
KQ-300CE方形250×250×150mm10L240W500W实验室/科研
KQ-400CE方形320×320×150mm15L360W500W小批量精密
KQ-500CE矩形500×300×150mm22.5L480W800W中批量通用
KQ-500MSE方形400×400×150mm24L500W1000W产业级大批量

▲ KQ-500MSE 是系列中槽面积最大、加热功率最高的方槽型号,专为产业级批量精密清洗需求设计。

三档兆声频率的产业级应用选择

兆声频率空化特性在KQ-500MSE中的典型产业应用
0.5MHz穿透力较强,大面积均匀覆盖大面积基板初级精洗、较大颗粒去除、光伏面板前处理
1.0MHz效率与精度均衡,最广泛应用8英寸晶圆批量清洗、大尺寸光学玻璃基板、平板显示基板精洗
1.7MHz极精细温和,纳米级颗粒去除EUV光刻掩模版清洗、超精密光学元件、高端显示器件基板

▲ 400×400mm大方槽配合方形工件(晶圆承载盘、大尺寸光学基板、显示面板基板),实现单批次大量处理,产业化效率高。

1000W大功率加热系统的优势

KQ-500MSE配备的1000W加热功率是本系列方槽产品中最强的加热配置。与KQ-400CE和KQ-300CE的500W加热相比,1000W加热功率针对24L大容量槽体提供了充裕的热量供给。从加热功率密度角度分析,1000W÷24L≈41.7W/L,与小型号相当,保证了大容量槽体的升温速度不受影响。实际升温表现上,约8-12分钟即可将24L清洗液从室温加热至50℃工作温度,充分满足产业化生产节拍的要求,避免长时间等待加热影响生产效率。

1000W大功率加热在产业应用中的价值:产业化生产对设备的启动准备时间有明确要求,过长的加热等待时间会直接降低产线效率。KQ-500MSE的1000W加热功率确保大容量槽体能够在合理时间内达到工艺温度,与上下游工序的节拍衔接更好。此外,大功率加热系统在高频使用环境下能够更稳定地维持设定温度,避免频繁开盖放置工件后的温度恢复时间过长问题,保证每批次清洗的温度条件一致。

温度在兆声清洗工艺中是关键工艺参数,对清洗液的粘度、清洗化学品的活性、兆声波的传播效率和空化效果均有显著影响。在产业化应用中,温度的精确稳定尤为重要——批量生产要求每批产品获得相同的清洗效果,温度波动是引起批次间差异的主要来源之一。KQ-500MSE的1000W加热系统配合精确的触控温控,提供稳定可靠的温度支持,为产业化精密清洗工艺的批次一致性提供硬件保障。

500W超声功率的大面积均匀覆盖

KQ-500MSE配备500W超声功率,在400×400mm的大槽底面积上产生均匀分布的兆声声场。500W功率通过合理配置数量的换能器在400×400mm的方形区域内建立均匀声场,确保槽内各位置工件都能获得相当的兆声作用强度,避免槽边缘区域声场强度显著低于中心区域的情况。大面积均匀声场对于产业化批量清洗至关重要——当槽内同时摆放多件工件时,位于不同位置的工件应当获得相同的清洗效果,才能保证整批产品的洁净度一致性。

超声功率虽然未设计为连续可调(这与CE系列有所不同),固定的500W额定功率配合三档可选的兆声频率,为用户提供了在特定功率水平下选择最适合工件的频率配置的能力,简化了操作,同时保持了对产业化应用充分的工艺灵活性。500W功率密度约20.8W/L(500W÷24L),对于大面积批量工件的产业化精密清洗来说是一个合理配置,既保证足够的清洗强度,又不会因功率过高对精密工件表面造成不必要的损伤风险。均匀可靠的声场是批量清洗质量一致性的基础保障。

间歇脱气功能与产业工艺稳定性

KQ-500MSE的间歇脱气功能(1s-59min59s可调)在产业化应用中的价值与实验室场景有所不同,但同样不可忽视。在产业化生产中,清洗槽往往需要一整天甚至更长时间连续工作,清洗液在长时间使用过程中溶解气体含量会因温度、气液界面接触、化学反应等因素发生变化,影响兆声波的传播效率和空化效果。通过在生产开始前或在清洗液更换后执行标准化的脱气程序,可以将清洗液状态恢复到初始一致水平,确保整个生产班次期间清洗效果的稳定性。

产业化生产中脱气程序的管理建议:建议在每个生产班次开始前执行固定的脱气程序(建议5-10分钟,具体时间根据工艺验证确定),将此步骤纳入标准作业程序(SOP)并存入9组程序中的固定位置(如程序1专用于脱气预处理,程序2-9用于不同产品的清洗工艺)。每次更换清洗液后同样执行脱气程序。这样的标准化管理能够显著减少批次间清洗效果的波动,提高产品良率的稳定性,对于需要满足严格质量管理体系要求的精密制造企业尤为重要。

7寸触控与9组程序在产业化中的效率价值

KQ-500MSE的7寸TFT触控操作系统在产业化生产中提供了显著的操作效率优势。大型清晰的触控界面让操作人员能够快速确认和调整工艺参数,特别是在生产紧张的班次中,减少参数设置时间就意味着提高生产效率。最长99小时59分钟的时间设定能力,满足某些特殊精密清洗工艺需要超长时间浸泡处理的需求,无需中途人工干预重新设定时间。数显超温度、超电压、超电流保护系统对于工业生产环境中可能发生的电力波动、设备异常等情况提供主动防护,保障设备安全和工件安全。

9组程序存储在产业化应用中有不同于实验室的使用价值:工厂通常生产多种型号的产品,不同产品对应不同的清洗工艺参数(频率、功率、温度、时间的组合),9组程序能够涵盖主要的产品类型,操作人员换线时只需选择对应产品的程序编号,极大简化了换线操作,减少了换线时间,同时消除了手动输入参数时可能出现的失误,提高了生产规范性和工艺执行一致性

产业级应用场景

大尺寸晶圆批量清洗:清洗8英寸晶圆承载盘(晶舟)或多片晶圆,400×400mm大槽单批次处理量大,兆声波实现亚微米颗粒高效去除,满足半导体制程洁净要求。

平板显示基板:清洗LCD/OLED显示面板的大尺寸玻璃基板,方形槽对方形面板工件的空间适配性优异,1.0/1.7MHz兆声精细去污不损伤薄膜结构。

光伏电池片前处理:硅太阳能电池片制造过程中的精密清洗,大批量高效处理,0.5MHz兆声有效去除切割颗粒和工艺污染物,提高电池转化效率。

大尺寸光学基板:清洗用于精密测量、激光系统或高端摄影光学系统的大尺寸光学基板,1.7MHz兆声极致精细,不损伤AR/HR精密镀膜。

半导体掩模版清洗:清洗光刻工艺用掩模版(光罩),EUV/DUV掩模版上的颗粒污染直接影响光刻精度,兆声波是去除掩模版表面颗粒的标准技术手段。

精密结构陶瓷件:批量清洗高精度陶瓷基板、氧化铝/氮化铝陶瓷载片等,去除加工颗粒和化学残留,为后续薄膜沉积或焊接工艺做准备。

硬盘存储介质:批量处理硬盘盘片、磁头部件的精密清洗,兆声波高效去除纳米级颗粒,防止颗粒污染导致的磁道损伤,保证存储可靠性。

精密传感器与MEMS:大批量生产中MEMS传感器、加速度计、陀螺仪等精密传感器的制程清洗,温和兆声保护微纳结构,同时保证批量生产中的清洗一致性。

KQ-500MSE以其最大的方形槽体和最强的加热功率,成为兆声波精密清洗系列中服务产业化大批量需求的旗舰方槽产品。24L大容量提升单批次处理量,400×400mm适配大尺寸方形工件,1000W快速加热缩短班次准备时间,兆声精密实现产业级纳米清洗,9组程序支持多产品线快速切换。对于规模化精密制造企业,KQ-500MSE是产业化兆声精密清洗的专业解决方案。

安装配置与产线集成建议

KQ-500MSE作为产业级清洗设备,在工厂环境中的部署建议:整机外形500×500×325mm,重量适中,可放置在标准工作台或专用清洗工位台面上。使用普通AC220V单相电源,1000W加热+500W超声总功率1500W,需确保供电回路有足够容量(建议使用独立的20A回路)。设备应放置在通风良好的区域,使用特种清洗化学品时应配置合适的局部排风设施,保护操作人员健康。

在生产流程集成方面,KQ-500MSE适合配置在半导体、显示面板、光学等精密制造产线的专用清洗工位。建议与上下游工序的设备布局相结合,考虑工件的传输路径和载具设计,确保工件从上道工序取出后能够快速放入清洗槽,完成清洗后及时进入下道工序,最小化工件在清洗外的暴露时间,保证工艺整体的洁净度管理水平。超纯水管路的接入、废液收集系统的配套以及定期清洗液更换的操作流程,应作为产线SOP的一部分进行规范,确保精密制造产线的清洗工序始终处于受控状态。

选择KQ-500MSE的理由

KQ-500MSE兆声波清洗机以400×400mm大正方形槽体、24L大容量、可选单频兆声频率(0.5/1.0/1.7MHz)、500W超声功率、1000W大功率加热、间歇脱气功能、7寸TFT触控操作和9组程序存储的完整配置,为精密制造企业在产业规模上实现兆声波精密清洗提供了专业可靠的解决方案。与同系列小容量型号相比,KQ-500MSE在保持全部核心技术功能的基础上,以更大的槽体、更强的加热和更高的批量处理能力,满足了从实验室向产业化规模扩大时对清洗设备的升级需求。

选择KQ-500MSE,就是选择将兆声波精密清洗技术引入产业化规模应用的专业方案。设备配备完整的技术文档和工艺指导资料,提供专业的安装调试、工艺参数优化咨询和长期售后技术支持。欢迎访问官方网站深入了解兆声波清洗技术及完整产品系列,或联系我们的技术与销售团队进行产线集成方案咨询、工艺评估和设备选型,让KQ-500MSE成为您精密制造产线的可靠清洗保障!


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