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KQ-300MSE 兆声波清洗器 - 高频精密超声清洗技术革新典范，适用于半导体与微纳制造行业

KQ-300MSE兆声波清洗器是我公司为满足高精密领域洁净需求而全新推出的一款高频超声清洗设备，采用兆赫兹级别的清洗频率（0.5MHz、1.0MHz、1.7MHz），在实现无损清洗的同时提升了超微颗粒去除效率。设备配置高端，集成7寸TFT触控屏、间歇脱气功能、温度电压电流异常显示以及9组用户程序储存功能，适用于半导体制造、光电器件、IC封装、精密光学元件等高端行业的苛刻清洗工艺。

一、KQ-300MSE兆声波清洗器主要技术参数

• 型号：KQ-300MSE

• 外形尺寸：340×340×325mm

• 内槽尺寸：250×250×150mm

• 清洗槽容量：10L

• 超声频率：0.5/1.0/1.7MHz（可选）

• 超声功率：300W

• 加热功率：500W

• 温度设定范围：室温~80℃

• 工作时间可调：1min~99h59min

• 进排水方式：手动控制

• 标配附件：不锈钢托架

• 电源要求：AC220V / 50Hz

二、KQ-300MSE清洗器的核心功能与优势

该清洗器不同于传统超声设备，其采用兆声波频率，波长极短，能在清洗液体中形成更加致密的声场区域，从而实现对微米级、亚微米级污染物的彻底清除。特别适用于那些对表面无任何机械损伤要求极高的元件，如半导体晶圆、MEMS器件、光学镀膜件等。

1. 高频兆赫超声技术

清洗频率高达0.5MHz、1.0MHz、1.7MHz，可深入微小缝隙及结构，对极微颗粒污染物产生良好的驱散作用。尤其在空化效应较低的频段下，清洗效果更为温和且精确，避免传统超声波可能造成的物理损伤。

2. 智能化触控操作系统

采用7寸TFT彩色触摸屏，UI界面友好，支持9组用户参数储存功能，便于常用工艺流程的一键调用，提高工作效率并减少误操作。

3. 多重安全保护

系统集成超温报警、超电流提示、超电压保护等功能，保障用户及设备的运行安全；清洗过程实时监控并提供可视化提示，用户可随时掌握运行状态。

4. 节能降耗电路设计

升级优化的电路结构配合高品质器件，显著提升了电能转换效率，有效降低无功损耗，为长期运行节省成本。

三、KQ-300MSE兆声波清洗器的应用范围与前景分析

该产品广泛应用于：

• 半导体制造：包括晶圆片清洗、光刻前处理、去胶、显影等环节

• 微电子封装：IC芯片、电容电阻等精细器件的残胶清除与污染控制

• 光电光学器件：光学透镜、红外窗口片镀膜前清洗及精密去污

• 精密仪器部件：医疗器械、实验室精密配件、陶瓷零件等的精密无损清洗

兆声波清洗技术正逐渐成为超净制造中不可或缺的一环，在高端制造业技术升级过程中展现出巨大的应用潜力。KQ-300MSE在设计时充分考虑了现代实验室及工业用户对于洁净度、可控性、重复性的多重要求，是一款兼具高频精密、智能控制与安全防护于一体的卓越清洗设备。

四、定制选项与扩展功能

• 可选配不同容量的清洗槽体，以适应不同体积工件的清洗需求

• 频率可定制为单频0.5MHz、1.0MHz、1.7MHz，也可按需求拓展多频切换功能

• 支持RS485/Modbus通信协议，适用于自动化产线数据对接

• 可扩展自动加液、排液、滤液系统

• 外壳颜色与工业环境适配可提供个性化定制

五、总结：为何选择KQ-300MSE兆声波清洗器？

如果您的生产或实验需要对微小颗粒、敏感表面、复杂结构元件进行无损且超洁净的处理，那么KQ-300MSE兆声波清洗器将是不二之选。它不仅代表了清洗精度的飞跃，更以智能化操作、高频控制、安全保障和卓越性能，为您打造高端、稳定、经济的超净解决方案。选择KQ-300MSE，就是选择了科技、效率与品质的三重保障。